Научный руководитель Национального центра физики и математики Александр Сергеев рассказал о сроках появления в России отечественного литографа. По словам учёного, первый демонстрационный образец оборудования для производства микросхем будет готов в течение двух лет, а промышленный вариант появится в течение пяти лет. Для этого страна располагает практически всеми компетенциями, сообщает информационное агентство ТАСС.
Рабочее название демонстрационного образца — «альфа-машина», он должен будет подтвердить, что выбранная технология является правильной, и все её компоненты, такие как источник рентгеновского изучения, рентгеновская оптика, фоторезисты и система позиционирования, работают вместе. После этого учёные займутся созданием следующей версии оборудования для предприятия микроэлектронной промышленности. Сергеев считает, что такой вариант появится уже через пять лет.
Отечественный литограф не будет сразу иметь разрешение в 28 нм, оно будет улучшаться постепенно. Сергеев уточнил, что учёные начнут использовать новые технологии с уже опробованных 90 нм. Проект финансируется Росатомом из своих инвестиционных программ при поддержке правительства страны.
Литография в микро- и наноэлектронике применяется для создания рельефного рисунка на специальном слое (резисте), расположенном на поверхности кремниевой подложки.
Источник новости: trashbox.ru
