Изображение: Quality Stock Arts, Shutterstock
Агентство Bloomberg сообщает, что в Китае местные производители оборудования для производства полупроводниковой продукции смогли заметно улучшить параметры своей иммерсионной литографической машины, работающей в DUV-диапазоне, несмотря на санкции со стороны США и ее союзников. С помощью собственных литографических машин Китай теперь может производить чипы по техпроцессу 65 нм. Ранее был доступен только техпроцесс 90 нм и более, такие литографические машины производила компания SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Group).
Кроме официциального заявления китайских властей о создании литографической машины, позволяющей производить чипы по техпроцессу 64 нм, появились сведения инсайдеров о том, что до техпроцесса 28 нм уже недалеко, он вот-вот будет доступен.
Китайские производители чипов все еще зависят от зарубежных поставщиков, в частности, компании ASML. Но у этого нидерландского предприятия истекает торговая лицензия в Китай, и власти страны ее почти наверняка не продлят. Но теперь у Китая появились свои литографические машины, вполне сравнимые по параметрам с теми, что закупались в ASML (напомним, продажи EUV-литографических машин в Китай запрещены, была доступна только DUV-литография). Читайте также Цифровизация в России: тренд или шаг вперед для рынка Что лежит в основе цифровизации — тренды или необходимость? Какие преимущества и вызовы создает цифровизация в России? Как развивается цифровизация в стране? Каким образом цифровые технологии дают возможность бизнесу решить острые вопросы, серьезно влияющие на эффективность и экономику компании?
Источник новости: www.it-world.ru
