На установку второго литографического сканера ASML, предназначенного для работы с высоким значением числовой апертуры (High-NA) в сочетании со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV), у компании Intel ушло меньше времени, чем в случае с первой такой системой, как отмечает TrendForce. По сути, на предприятии Intel в Орегоне теперь имеются два таких литографических сканера, и это позволяет ускорить подготовку к началу выпуска серийной продукции по технологии 14A, который намечен на 2026 или 2027 год.
Источник изображения: Intel
Компании попутно предстоит решить ряд других технологических проблем. Например, определиться с типом используемых фоторезистивных материалов, ведь в условиях массового производства они будут требоваться в существенных количествах, а некоторые из них предстоит получать от поставщиков впервые.
Технически, Intel готова экспериментировать с оборудованием типа High-NA EUV ещё при производстве чипов по технологии 18A, но не в серийных масштабах. Просто полученный опыт в дальнейшем можно будет применить при массовом выпуске чипов по технологии 14A, который начнётся не ранее 2026 года.
Источник новости: overclockers.ru
