Россия совместно с белорусским предприятием ОАО «Планар» разрабатывает линейку оборудования для производства микросхем. В рамках кооперации стороны работают над девятью установками, которые должны закрыть ключевые этапы технологической цепочки изготовления фотошаблонов и фотолитографии. Об этом сообщает CNews.
Большинство новых установок будут использоваться при изготовлении фотошаблонов — специальных стеклянных пластин с рисунком будущей микросхемы. Именно с их помощью схема затем переносится на кремниевую пластину, из которой и создаются процессоры, память и другие полупроводниковые компоненты.
Проект охватывает практически весь цикл подготовки фотошаблонов. Одни установки будут «рисовать» на них топологию чипа, другие — проверять, нет ли ошибок или смещения элементов, третьи — устранять найденные дефекты с помощью лазера. Также создается оборудование для нанесения меток совмещения, которые нужны, чтобы при производстве многослойных микросхем все слои совпадали с точностью до долей микрона.
В числе уже разработанных решений — установка «Процесс ГИФ», предназначенная для создания рисунка на фотошаблонах по техпроцессам 90-65 нм, а также система «Процесс КТФ», которая проверяет правильность нанесенной топологии.
В 2026 году планируется завершить разработку сразу нескольких новых установок: «Прогресс-Перенос» для переноса меток совмещения на обратную сторону пластин, «Прогресс-Контроль» для проверки координат элементов схемы, «Прогресс-Ретушь» для лазерного устранения дефектов и «Прогресс-КДПП» для контроля дефектности. На 2027 год запланирован запуск установки «Прогресс ПМП», которая будет контролировать полутоновые маскирующие покрытия.
Как пояснил CNews партнер практики «Промышленность и технологии» Strategy Partners Роман Тиняев, белорусское предприятие ОАО «Планар» отвечает за инженерную и производственную часть проекта, тогда как российские компании выступают заказчиками, финансируют разработку и занимаются интеграцией оборудования.
ОАО «Планар» — один из крупнейших производителей оборудования для микроэлектроники на постсоветском пространстве. Компания специализируется на системах фотолитографии, а также оборудовании для контроля и измерения параметров полупроводниковых пластин и фотошаблонов.
Совместные разработки являются частью российской программы развития электронного машиностроения. Ее цель — к 2030 году заместить около 70% импортного оборудования и материалов, необходимых для выпуска микроэлектроники. На реализацию программы предусмотрено более 240 млрд рублей.
Источник новости: hi-tech.mail.ru
