Последние санкции, введенные правительством Нидерландов, требуют от ASML получения лицензий на продажу старых DUV-сканеров в Китае.
В ответ Китай разработал свой собственный DUV-сканер, как сообщается в документе на сайте Министерства промышленности и информационных технологий КНР.
Китайская литографическая машина использует аргон-фторидный (ArF) источник света с длиной волны 193 нанометра и способна печатать чипы с разрешением 65 нанометров.
Такие сканеры использовались в мировой индустрии полупроводников с 2009 года, а аналогичные модели от ASML существовали уже в 2005 году.
То есть да, вы все правильно поняли — прямо сейчас Китай остается позади США и Европы в развитии полупроводниковых технологий примерно на 15 лет. ASML, в свою очередь, уже перешла к более передовым технологиям, таким как EUV-сканеры.
Источник новости: www.ferra.ru
