Российский производитель микроэлектроники «Микрон» (входит в группу компаний «Элемент», ELMT) заявил об успешном тестировании первого высокочувствительного фоторезиста отечественного производства для техпроцессов 90 нм.
В техпроцессах «Микрона» используется 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей. По словам компании, на заводе ведётся активная работа по замене всех компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.
Фоторезист — светочувствительный полимерный материал для фотолитографии, используемый в процессе изготовления интегральных микросхем. Он позволяет формировать на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. Строгое соответствие материала техническим требованиям и стандартам микроэлектронного производства обеспечивает точное формирование элементов на пластине.Гульнара Хасьянова
Генеральный директор АО «Микрон»
«Выпуск отечественных материалов для микроэлектроники открывает путь к прекращению монополии иностранных игроков. Работы по импортозамещению важно вести в кооперации с научными учреждениями — тогда исследования сразу переходят в производство. Отечественный фоторезист для 90 нм — это важная веха в импортозамещении материалов и развитии производства микроэлектроники».
В программе «Микрона» по импортозамещению материалов в настоящее время участвуют 16 российских производителей и научных институтов. Новый отечественный фоторезист выпускается на предприятии в Приволжском федеральном округе, обеспечивающем более 40% от общего объёма производства российских химических материалов.
«Микрон» представил работу по импортозамещению высокочистых химических материалов и электронных газов, применяемых в производстве, на третьем Форуме будущих технологий «Новые материалы и химия», проходящем в Москве с 20 по 21 февраля 2025 года.
Источник новости: habr.com
