Зеленоградский наноцентр (ЗНТЦ) в сотрудничестве с белорусской компанией Planar завершил разработку первой отечественной литографической системы, поддерживающей техпроцесс 350 нм (0,35 микрон). Оборудование прошло официальные проверки и сейчас находится на этапе интеграционных испытаний в Зеленограде.
Новая установка для 200-миллиметровых пластин использует твердотельный лазер с размером поля экспонирования 22×22 мм (484 мм²). Разработчики не раскрывают критичные технические детали о длине волны и мощности лазера, но подчеркивают преимущества твердотельного источника света — энергоэффективность, более узкий диапазон излучения и увеличенный срок эксплуатации.
Для понимания масштаба достижения стоит сравнить разработку с существующими мировыми аналогами. Литографические системы ASML для 200-мм пластин, предназначенные для техпроцессов от 350 нм до 130 нм, традиционно используют два типа источников ультрафиолетового излучения: ртутные лампы или эксимерные лазеры на основе KrF (криптон-фторид) и ArF (аргон-фторид).
Техпроцесс 350 нм, на работу с которым нацелена новая российская установка, считается устаревшим по современным стандартам. В середине 1990-х годов Intel выпускала на нем процессоры Pentium MMX, Pentium Pro и ранние Pentium II, AMD производила процессоры K6 примерно в 1997 году. А сегодня передовые чипы создаются по техпроцессу 3-5 нм, при этом тестирование уже проходят и более передовые версии.
Интересно, что даже российские производители чипов Ангстрем и Микрон не работают на техпроцессе 350 нм — они используют более современные технологии от 250 нм до 90 нм. Это ограничивает коммерческую ценность нового литографа для отечественных производителей, где продолжают использоваться литографические установки ASML серии PAS 5500.
Несмотря на это, оборудование ЗНТЦ может найти применение в специфических секторах. Некоторые автомобильные компоненты и микросхемы управления питанием производятся с использованием устаревших техпроцессов. Военные приложения также могут выиграть от такого оборудования, где передовая производительность не всегда выступает ключевым требованием.
Главная цель новой машины — стать базой для разработки более продвинутых версий. ЗНТЦ уже трудится над новой моделью для техпроцесса 130 нм, завершение которой ожидается в 2026 году.
Напомним, что российское правительство установило дорожную карту, в которой обозначило отечественное производство по нормам 90 нм к концу 2025 года, 28 нм к 2027 году и 14 нм к 2030 году. Пока ЗНТЦ и другие российские компании на годы отстают от этого графика.
Источник новости: shazoo.ru
