Московский завод «Микрон» тестирует первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому технологическому процессу, сообщил заместитель мэра Москвы по вопросам транспорта и промышленности Максим Ликсутов. В среднесрочной перспективе завод «Микрон» планирует полностью перейти на российскую компонентную базу в сфере сверхчистых и новых материалов. Первый отечественный фоторезист был разработан компанией НИИМЭ. Он создан на основе полимера и является одним из ключевых элементов в производстве микросхем с помощью фотолитографии. Этот светочувствительный материал наносится на кремниевую подложку, которая облучается с помощью фотолитографа через специальный шаблон. После многократного облучения на пластине создается рельефный «рисунок» микросхемы.
Ззавод «Микрон» является единственным в России производителем микросхем с топологией 180-90 нанометров. Его чипы используются в банковских картах НСПК «Мир», загранпаспортах, водительских удостоверениях, транспортной карте «Тройка», школьной карте «Москвёнок». Предприятие обладает около 80 действующими патентами и свидетельствами по ключевым продуктам, прошедшим государственную регистрацию.
Источник новости: mobile-review.com
