В США представлен законопроект MATCH Act, который предполагает ужесточение ограничений на экспорт оборудования для производства микросхем в Китай. Документ разработан группой законодателей и направлен на сохранение технологического преимущества в сфере искусственного интеллекта (ИИ).
Ограничения могут затронуть поставщиков, включая ASML и Nikon. Речь идет о технологиях, которые Китай не производит самостоятельно, в частности об иммерсионной DUV-литографии, применяемой при создании микросхем.
Законопроект предусматривает запрет на поставку и обслуживание оборудования для компаний SMIC, Huawei, YMTC и других производителей.
Ранее уже действовали ограничения, однако они вводились на уровне администрации. Новый документ может распространить их и на союзников США. При этом Китай обеспечивал 33% продаж ASML в 2025 году, а в 2026 году показатель ожидается на уровне около 20%.
Источник новости: www.ferra.ru
