Китай начал массовый выпуск машин для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии. Такая технология имеет решающее значение для производства современных микросхем. Машины являются собственной китайской разработкой. Освоение выпуска такого рода оборудования является важным шагом вперёд в стремлении официального Пекина снизить зависимость от иностранных технологий. Об этом сообщает Reuters со ссылкой на осведомлённый источник.Оборудование для экстремальной ультрафиолетовой литографии. Фото: Bart van Overbeeke /ASML Holding NVЗаявлено, что выпуск литографических машин осуществляется под руководством малоизвестной китайской государственной компании Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. К работе привлечены команды из ведущих китайских стартапов в области литографии.Как отмечает Reuters, запуск производства собственного оборудования стал победой для общенациональной инициативы официального Пекина, целью которой является достижение страной самообеспеченности полупроводниками. Это один из главных приоритетов председателя КНР Си Цзиньпина. Однако китайское оборудование не будет представлять непосредственной коммерческой угрозы для голландского поставщика ASML.Технология DUV (Daily UV Protection) – ключевой инструмент производства микросхем, долгое время находившийся под контролем компании ASML из Нидерландов.Издание The Information, которое специализируется на новостях технологической индустрии, первым сообщило о разработке Китаем подобного инструмента. Было отмечено, что неназванная государственная компания из Шанхая начала производство таких машин. На этот год запланирован выпуск пяти таких устройств, в следующем году должно быть построено примерно 20 экземпляров.По информации источника Reuters, установка DUV компании Aishengna, как ожидается, потребует дополнительных испытаний. Она пока далека от соответствия конкурирующим моделям фирмы из Нидерландов.Однако успешное внедрение этой технологии предоставит производителям микросхем из КНР альтернативный вариант в том случае, если правительства стран Запада ещё больше ограничат продажи литографического оборудования зарубежным клиентам или его обслуживание.Согласно сообщению издания The Information, ссылающегося на два источника, ожидается, что произведенные в Китае установки DUV будут переданы в этом году ведущим местным производителям микросхем, включая Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor и производителю микросхем памяти ChangXin Memory Technologies (CXMT).В установках иммерсионного (погружного) ультрафиолетового облучения для печати более мелких схемных узоров используется слой воды между проекционным объективом и кремниевой пластиной. Такое оборудование применяется для производства широкого спектра микросхем. Оно также может быть использовано для изготовления более совершенных полупроводниковых устройств посредством многократного нанесения рисунка, что требует повторного облучения одного и того же слоя.С учётом приведённой информации можно сделать вывод о том, что КНР по-прежнему стремится к достижению технологического суверенитета. И это правильно в современных геополитических реалиях. Касательно информации источника агентства о том, что китайская установка для литографии далека от соответствия продукции голландской фирмы ASML, то к таким утверждениям необходимо относиться с осторожностью. Китай держит в секрете свои разработки, поэтому китайская установка может оказаться и лучше.
Источник новости: overclockers.ru
