Компания Canon представила свою новую литографическую машину FPA-1200NZ2C, предназначенную для создания полупроводниковой продукции по техпроцессу 5 нм с перспективой масштабирования до 2 нм. Литографическая машина Canon относится к категории «nanoimprint lithography» (NIL) и является прямым конкурентом EUV-литографической машины голландской компании ASML.
Наноимпринтная литография радикально отличается от фотолитографии: в оборудовании Canon на кремниемую пластину наносится слой полимера, затем сверху на полимер физически прикладывается маска, после чего ультрафиолет используется для того, чтобы полимер затвердел.
Источник новости: www.it-world.ru
