Вчера, 20 декабря, китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group официально представила свой первый литографический сканер, который предоставляет возможность обрабатывать пластины по технологическому процессу в 28 нанометров. Данное оборудование получило название SSA/800-10W и является настоящим прорывом в индустрии, так как ранее эта же компания выпускала инструменты с поддержкой довольно устаревших на текущий момент технологических процессов в 90, 110 и 280 нанометров. Теперь же ситуация должна существенно измениться, хотя пока что точных данных или прогнозов относительно объёмов выпускаемой продукции представители SMEE не сообщают.
Стоит отметить, что компания TSMC, которая является несомненным лидером н рынке, внедрила производство чипов по технологическому процессу в 28 нанометров ещё в 2011 году, а китайская SMIC внедрила технологию в 2015 году. Правда, оба гиганта индустрии используют литографическое оборудование от ASML для выпуска своей продукции, тогда как SMEE в этом вопросе более независима. И, конечно, для Китая это очень важный момент, ведь большинство стран, которые выпускают необходимое оборудование для производства чипов по более современным технологическим процессам, сотрудничать с Поднебесной отказываются.
Источник новости: trashbox.ru
