Новый этап американских экспортных ограничений в отношении Китая и других «неблагонадёжных» стран, располагающих собственной полупроводниковой промышленностью, призван перекрыть доступ китайских производителей к оборудованию, использующему погружную (иммерсионную) литографию со сверхглубоким ультрафиолетовым излучением. По данным DigiTimes, в случае с китайской компанией SMIC это будет означать, что она столкнётся с трудностями при расширении производства чипов по 40-нм и более современным литографическим технологиям.
Источник изображения: DigiTimes
Китайские производители и так вынуждены сосредотачиваться преимущественно на зрелой литографии, но очередные ограничения со стороны США ещё сильнее сузят спектр доступного им технологического оборудования. Глава ASML Петер Веннинк (Peter Wennink) на фоне обсуждения нового этапа санкций США против КНР открыто заявил, что китайские производители рано или поздно создадут своими силами необходимое для нужд отечественной промышленности оборудование, и это лишь вопрос времени. По всей видимости, власти США просто хотят выиграть больше этого времени.
Источник новости: overclockers.ru
