Так называемое EUV-оборудование работает с длиной волны лазера 13,5 нм, что примерно в 14 раз меньше, чем у DUV-систем. По этой причине выпускать 7-нм и более совершенные чипы с использованием EUV-сканеров не только дешевле, но и технически проще. ASML поставки EUV-оборудования в Китай не смогла начать ещё в 2019 году, поскольку получила запрет властей Нидерландов на подобную деятельность. Как сообщает сайт South China Morning Post, китайские производители литографического оборудования пытаются освоить соответствующие технологии самостоятельно.
Источник изображения: ASML
По крайней мере, серийно выпускающая сейчас только системы для работы с 28-нм техпроцессом и более грубыми шанхайская компания SMEE ещё в марте прошлого года зарегистрировала патентную заявку, описывающую принципы устройства источника сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV). Если описываемые в патенте технологии SMEE сумеет применить на практике, то в какой-то перспективе сможет наладить поставки китайских EUV-систем для производства более совершенных полупроводниковых компонентов.
Источник новости: overclockers.ru
